本实用新型涉及一种离子清洗机专用的载片托盘,其结构包含底板和位于底板顶部的载片架。载片架两侧底板端部均配备卡套,以稳固载片。载片架由两块平行板构成,旨在提高清洗效率和操作便捷性。
背景技术
晶圆清洗作为半导体产业的基础,非常重要,清洗的效果直接影响到电子产品最终的性能、效率和稳定性。清洗晶圆不仅要除去晶圆表面的杂质而且要使晶圆表面钝化,从而减小晶圆表面的吸附能力。高规格的晶圆对表面的洁净度要求非常严格,理论上不允许存在任何颗粒、金属离子、有机粘附、水汽、氧化层,而且晶圆表面要求具有原子级的平整度。
等离子清洗机利用高能等离子体轰击待清洗物体表面,实现对物体表面的清洗,待清洗物体一般被放置在托盘上,再将托盘放入密封的等离子清洗机内,现有技术中的托盘一般是一个放置有多个待清洗物体的平板,当待清洗物体在清洗的过程中,待清洗物体容易沿平板的平面移动,待清洗物体移动将可能造成多个待清洗物体相互重叠遮挡而影响最终的清洗效果,并且,当待清洗物体移动接触到等离子清洗机内的电极板时,容易导致等离子清洗机故障。
对此,特提出一种用于离子清洗机的载片托盘,来解决上述问题。
实现思路