一种电阻阵列红外仿真系统的非均匀性校正方法
2025-02-26 20:06
No.1344400268607102976
技术概要
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本申请涉及红外辐射输出的非均匀性校正技术领域,具体涉及一种电阻阵列红外仿真系统的非均匀性校正方法,该方法包括:获取梯度均值矩阵;计算电阻元之间的特征距离;利用特征距离对电阻阵列进行区域划分;确定每种区域划分方案的自适应度;利用自适应度采用粒子群优化算法获取最优区域划分方案;基于最优区域划分方案划分后的每个区域内电阻元的校准数据进行校正,获取每个区域内每个电阻元的电压响应曲线,利用电压响应曲线输出合适的电压对电阻元的红外辐射输出进行控制。本申请旨在避免通用电压响应曲线对部分电阻元拟合效果差的情况,降低均匀性校正中出现的误差,提高最终的红外成像质量。
背景技术
电阻阵列红外仿真是一种用于生成仿真红外图像的方法。在控制电阻阵列生成仿真红外图像时,通过电压控制电阻阵列中的电阻元升温,模拟实际的物体发出的红外辐射,并通过红外成像设备拍摄红外图像。在控制电阻阵列时,由于不同的电阻元存在性能差异,因此需要进行非均匀性校正。在目前的非均匀性校正方法中,采用稀疏网格法获取电阻元的电压响应数据,通过分段函数法对所有电阻元构建一条通用电压响应曲线,并对每个电阻元计算偏差值,通过通用电压响应曲线和电阻元的偏差值对每个电阻元单独控制,完成非均匀性校正。 其中采用通用的电压响应曲线,而不是每个电阻元单独计算电压响应曲线,是为了避免电压响应曲线对某个电阻元的校准数据出现过拟合的情况。但是对所有电阻元采用同一条电压响应曲线,忽略了邻近电阻元之间的互相影响,这可能会导致通用电压响应曲线对部分电阻元的拟合效果较差,进而影响红外成像质量。因此在电阻阵列红外仿真时,存在着因为部分电阻元与电压响应曲线拟合效果差的情况,这会导致均匀性校正出现误差,进而造成红外成像质量下降的问题。
实现思路
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该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
窦晓牧
技术所属: 西安高商智能科技有限责任公司
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