一种激光直写系统的曝光异常检测方法
2025-02-24 11:25
No.1343544304148422656
技术概要
PDF全文
本技术涉及一种激光直写系统的曝光异常检测方法,所述激光直写系统设置有曝光区域和检测区域,所述曝光区域用于对工件图像进行曝光,所述检测区域用于对检测图像进行曝光,所述检测区域设置有标记点,根据所述标记点对所述检测图像进行对位曝光,获取曝光后的曝光检测图像的数据信息,根据所述曝光检测图像的数据信息对激光直写系统的曝光异常进行检测。利用检测区域对检测图像进行曝光,便于及时检测激光直写系统是否存在异常,及时处理曝光不合格的工件,减少异常板的流出,及时校正激光直写系统存在的问题,避免产生异常板,有效减少损失。
背景技术
激光直写曝光系统又称影像直接投射系统,可应用于半导体和PCB以及平面成像领域的研发、生产,其原理是利用图形发生器取代传统的掩模技术,直接将计算机的图形数据曝光到产品上,能够节省成本和提高效率。 激光直写曝光系统常用的图形发生器为数字微镜阵列(DMD ,DigitalMicromirror Device)、液晶显示器、旋转多角镜扫描器或者光栅光阀(GLV,Grating LightValve)等。激光直写系统对工件进行曝光时,所述工件上覆盖有光刻胶,通过对所述图像发生器进行控制,根据需要曝光的图像,一部分光线照射所述工件,一部分光线偏离所述工件射出,在所述工件上获得所需曝光的图像,在进行曝光之前,还需要对工件进行对位操作,使得曝光图像正确的投影到工件的对应位置。在曝光过程中,如果对图形发生器的控制出现异常或者在对位过程中存在偏差,会导致曝光结果产生重大的缺陷,如果没有及时的对曝光结果进行监控,有问题的工件会流转到后续的工艺制程进行下一步加工,该问题工件最终只能做报废处理,并且在系统异常未被发现且一直存在的情况下,会持续进行新工件的曝光,最终造成无法挽回的损失。
实现思路
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该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
刘栋胡传武张雷
技术所属: 源卓微纳科技(苏州)股份有限公司.
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