光敏聚氨酯薄膜:表面浮雕光栅图案技术与应用
2025-02-13 18:11
No.1339660298076037120
技术概要
PDF全文
本技术属于光学加密技术,介绍了一种新型光敏聚氨酯薄膜,该薄膜表面具有浮雕光栅图案。详细阐述了其制备流程,包括在冰浴和惰性气氛条件下,甲苯二异氰酸酯与二氢吡啶的混合反应等关键步骤。该薄膜在光学防伪和信息存储领域具有广泛的应用前景。
背景技术
光诱导的含二氢吡啶单元的薄膜的表面结构化允许创建具有变化的高度的复杂表面浮雕图案,而使用传统的光刻工具很难形成这种图案。可以结合多种光栅图案,以创建具有宽色域结构颜色以及胶片表面上明亮的光栅结构的像素。只要材料行为是线性的,就可以使用这种多重构图方法创建任何傅立叶光学表面,创建具有纳米精度的复杂3D表面浮雕的潜力。 迄今为止的研究集中在构建超分子层次结构。中国专利CN111845148A公开了光学防伪元件及其制作方法和中国专利CN103576216A公开了一种光学防伪元件及采用该光学防伪元件的防伪产品,其表面浮雕的制备都需要多表面(基底、镀层、和吸收层)才能实现虹彩结构色。尽管目前有多种技术及方法可以制造出具有不同形态的起皱结构,但开发出一种可以在聚合物表面大面积地制造有序可控的一维或二维起皱结构的技术仍是一个重大挑战。其中,控制薄膜起皱过程中薄膜表面的应力分布状态,即应力大小与方向,对于最终的褶皱结构形态尤为重要。
实现思路
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该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
杨玉照  吴静  陈旭东  马泽通  冯登崇  徐昭昭  林勇  肖程伟  汪成
技术所属: 广东工业大学  化学与精细化工广东省实验室揭阳分中心
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