本实用新型介绍了一种专门用于VC均热板加工的抛光设备,属于VC均热板制造技术领域。该设备包括一个抛光主架,其核心部分设计用于对VC均热板进行精确抛光处理。
背景技术
VC一般称为均热板,或均温板,是利用相变化的原理来实现快速导热的一种散热元件,VC(VaporChambers)直译叫蒸汽腔,业内一般叫平面热管、均温板、均热板。随着芯片功率密度的不断提升,VC已经广泛应用在CPU、NP、ASIC等大功耗器件的散热上,其VC均热板的内壁具有微结构的真空腔体,因其具有导热率高、均温性能好、厚度薄和易于集成等特点,已成为大功率LED集成散热结构的发展趋势,为了保证VC均热板的顺利使用,需要对VC均热板的表面进行打磨抛光,在对其进行打磨抛光时,需要将VC均热板放置在夹持机构上进行固定,继而通过抛光机构对其VC均热板表面进行打磨抛光,而抛光时由于VC均热板的固定,因此需要将VC均热板取下进行翻面夹持,进而才能对其另一面进行打磨抛光,而采用此种方式降低了其打磨抛光的效率,并且VC均热板被夹持处不能够被打磨,从而导致其打磨抛光不充分,为此我们提出了一种VC均热板加工用抛光装置。
实现思路