新型单轴位移抛光研磨机摆臂结构
2025-02-05 08:39
No.1336617361511555072
技术概要
PDF全文
本实用新型介绍了一种新型单轴位移抛光研磨机的摆臂结构,该结构包含旋转下压装置和摆动控制装置。旋转下压装置由轴座、转轴、安装架、气缸、连杆组件和压杆组成;轴座内竖直设置有转轴。
背景技术
抛光研磨机用于对产品的底面进行抛光研磨加工,而目前的载具通常是固定在一个位置的,通过在研磨盘的周边设置定位导向轮,控制载具的位置,使得载具在固定的位置跟随产品的打磨进行旋转,或者将载具安装在安装机头上,通过安装机头控制载具下降至磨盘上方,再控制磨盘旋转对产品进行抛光打磨,但是在固定位置打磨,具有研磨效率低、研磨平整度还不够高的劣势。
实现思路
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该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
洪志清阎秋生吴勇波陈海阳杨广荣
技术所属: 广东纳诺格莱科技有限公司.
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