本实用新型专利涉及清洗设备技术,特别是针对一种高效能均匀流动硅片清洗装置。该装置由清洗槽体、花篮托承机构、匀流机构和鼓泡机构组成,其中匀流机构采用两组日字形结构的匀流管路和两根L形结构设计,以实现硅片的高效清洗。
背景技术
近年来,随着太阳能电池行业的不断发展,原4篮/批次的槽式清洗设备已不能满足产能需求。目前主流方式是把槽体做的更大,这时如何让槽内溶液变得更加均匀就变得重要了。
中国专利CN110711742A披露了一种提高溶液均匀性的清洗槽结构,这里的清洗槽是一种4篮/批次的设备,这种清洗槽的底部包括至少一块带多个均流孔的均流板,进液方式为多点馈入式。如果要做成6篮/批次的设备,随着槽体变的更大,多点馈入进液方式在循环量比较小的情况下,槽内远离进液口位置的溶液无法得到及时置换,该区域会出现反应不充分,从而降低良品率。如果只是简单增大循环量,溶液置换率可能可以满足工艺需求,但是硅片会在水流的冲击下剧烈抖动,产生碎片降低良品率,且设备能耗也会变得更高。
因此需要改进清洗设备来解决以上问题。
实现思路