本技术涉及液态金属抛光工艺,介绍了一种新型的抛光方法及其装置,通过高频交变磁场精确控制液态金属研抛盘。该方法将抛光过程分为四个阶段:粗抛、中抛、细抛和精抛,旨在提高抛光效率和质量。
背景技术
在使用研抛盘进行抛光时需要利用涂敷或压嵌将磨粒固定在研抛盘上,在通过研抛盘与被加工件进行摩擦从而达到抛光效果。目前市面上存在各种各样的研抛盘,其中有一部分是液态金属作为基底材料的研抛盘。这些液态金属研抛盘在磨粒被磨秃钝化之后需要将整体完全融化后再与新的磨粒重新混合,然后再次放入模具定型成新的研抛盘,同时在加工过程中需要注入大量冷却液以保证低温环境。采用这种办法加工效率较低,并且在加工过程中磨粒被钝化的情况无法得到有效改善,只有将研抛盘融化后混入新的磨粒才能继续加工。并且在加工过程中无法改变加工区域的磨粒分布,加工质量无法进一步提高。
实现思路