本系统介绍了一种水雾抛光磨抛板的自动在线循环清洁装置,集成了浸泡溶解、机械清洗、风淋干燥、抓取输运、电控及存放架等模块。该装置通过浸泡溶解技术,实现磨抛板的高效清洁,提升抛光效率和质量。
背景技术
随着装备性能的快速更新迭代,对于水溶性功能晶体元件的制造要求愈加严苛,近乎当前高性能精密制造的极限。然而,该类型晶体大都具有强水溶性、低硬度、低断裂韧性和强各向异性,是公认的极难加工材料。如何实现水溶性功能晶体的高质高效加工,是专家学者研究的前沿和热点。
为了满足国家重大科技装备对水溶性功能晶体元件的迫切需求,水雾抛光方法应运而生。该方法利用水雾触发水溶性功能晶体表层材料的可控溶解,并在机械作用下去除溶解产物,实现表面平坦化加工。为了实施该方法,申请人发明了《一种基于雾化颗粒的水溶解微纳加工装置》(公开号:CN106379856A)和《一种用于微水雾抛光的多工位自适应执行装置》(公开号:CN110026903A),采用具有表面微结构的磨抛板提供机械作用,成功加工出了超光滑晶体表面。然而,水雾抛光效率和加工稳定性不理想,主要原因是:水雾抛光过程中溶解产物持续黏附在磨抛板表面,当积累到一定程度时,磨抛板的机械作用急剧降低,以至于无法与晶体材料溶解作用相匹配。因此,必须定期清洁磨抛板,去除其表面积累的溶解产物,确保机械作用的持续稳定。
对于上述发明装置,存在三方面缺陷:其一,磨抛板清洁作业期间抛光停滞,严重制约了加工效率的提高;其二,磨抛板清洁单纯依靠水流冲洗,难以有效去除磨抛板表面微结构中的溶解产物;其三,磨抛板清洁完全依赖于手工操作,费时又费力。如何在装置结构层面克服以上三方面缺陷是提高水雾抛光效率和加工稳定性的关键技术难题。
在目前已发表的学术论文和已公开的专利技术中,并未发现在功能原理及应用技术层面能够解决上述三方面缺陷的例子。
实现思路