介孔二氧化锡薄膜制备新方法
2025-01-09 09:29
No.1326845373742063616
技术概要
PDF全文
本技术涉及纳米材料技术,提供一种化学浴沉积制备介孔二氧化锡薄膜的新方法。通过向水中添加尿素、浓盐酸、巯基乙酸和锡源,获得透明均相溶液,然后在低温条件下进行老化处理,形成介孔二氧化锡薄膜。
背景技术
二氧化锡是一种宽带隙金属半导体材料,电子迁移率为~240cm2 V-1 S-1 ,光学带隙为3.6-4.0eV,高透光率,化学稳定性,机械稳定性等优点,而被广泛用于光伏器件、触摸屏、平板显示器、节能智能窗等领域。因此二氧化锡的合成具有重要的意义。 目前二氧化锡的合成方法主要有溶胶-凝胶法、水热合成、化学浴沉积、原子层沉积以及喷雾沉积。其中,对于传统的化学浴沉积法,一般需要在温度较高的环境中,并且得到的是致密的二氧化锡。但是致密的二氧化锡的厚度若得不到的精准的控制,容易产生针孔或者微洞,从而影响二氧化锡的性能,进而为消除这种不利影响需要提供有效的制备二氧化锡的方法。
实现思路
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该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
王莉  赵强强  盛洪庆  周忠敏
技术所属: 青岛科技大学
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